مشخصه های وابسته به دمای نانو گیت دی الکتریک هافنیوم اکسید در سیلیکون اکسید
thesis
- وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه مازندران - دانشکده علوم پایه
- author علی رمضان نژاد
- adviser علی بهاری
- publication year 1390
abstract
در ترانزیستورهای فلز-اکسید-نیمه رسانای مکمل (cmos) ضخامت گیت اکسید سیلیکون 1 تا 2 نانومتر است. کاهش ضخامت به 1 نانومتر برای تولیدات آتی این ترانزیستورها سبب افزایش جریان تونلی و همچنین جریان نشتی می گردد. از جمله مواد مناسب اکسید هافنیوم است که ثابت دی الکتریک بالایی دارد، گاف نواری آن پهن بوده و در تماس با زیرلایه سیلیکونی دارای تعادل حرارتی است. در کار حاضر فرایندهایی در جهت سنتز hfo2 به کار رفته و خواص نانوساختاری آن به کمک تکنیک های پراش اشعه ایکس، طیف سنج تابش مادون قرمز تبدیل فوریه، میکروسکوپ الکترونی روبشی، طیف پاشندگی انرژی اشعه ایکس، تکنیک cv، میکروسکوپ نیروی اتمی و میکروسکوپ الکترونی عبوری مطالعه می گردد. نتایج بدست آمده نشان می دهد که hfo2 می تواند به عنوان گیت دی الکتریک مناسبی برای ترانزیستور های فلز-اکسید-نیمه رسانای عایق (cmis) باشد.
similar resources
مشخصه یابی و بررسی خواص دی الکتریک الکتروسرامیک های نانوبلور پایه اکسید نیکل سنتز شده، به روش آلیاژسازی مکانیکی
پیشرفت روزافزون صنعت میکروالکترونیک، نیازمند ارتقای مواد الکترونیکی پیشرفته از جمله سرامیکهای دیالکتریک با ثابت دیالکتریک بالا برای کاربردهایی نظیر خازنها میباشد. دیالکتریکهای برپایه اکسید نیکل دستهای از این مواد پیشرفته میباشند، که به علت داشتن ثابت دیالکتریک بسیار بالا در محدوده دمایی گسترده، در سالهای اخیر مورد توجه محققان بودهاند. در این پژوهش، سرامیک دیالکتریک Li0.05Ni0.95O ب...
full textتاثیر دمای سنتز بر نانو ذرات دی اکسید تیتانیم تهیه شده به روش سونوشیمیایی
در این مقاله، برای بررسی تاثیر دمای سنتز بر نانو ذرات دی اکسید تیتانیم تولید شده به روش سونوشیمیایی از محلول تترا ایزو پروپایلواورتیتانات (C12H28O4Ti)، هیدروکسید سدیم (NaOH) و اتانول به عنوان حلال در سه دمای �C20، �C35 و �C50 استفاده گردید. ابتدا محلولهایی با مولاریتۀ مشخص از C12H28O4Ti و NaOH تهیه شد و در مدت زمان 5/1 ساعت تحت امواج مستقیم التراسونیک توسط دستگاه Sonicator قرار گرفت تا واکنشهای...
full textجذب کادمیوم از پساب سنتتیک با استفاده از نانو ذره دی اکسید سیلیکون اصلاح شده
چکیده سابقه و هدف: فلزات سنگین همانند کادمیوم اثرات مضر زیادی را در محلول های آبی ایجاد می کند. بنابراین حضور فلزات سنگین در آب های سطحی و زیرزمینی به عنوان مشکل آلاینده معدنی اصلی شده است .روش های مختلفی جهت حذف فلزات سنگین وجود دارد که یکی از بهترین روش ها جذب سطحی است. هدف از این پژوهش حذف یون های کادمیوم دو ظرفیتی از محلول های آبی با استفاده از جاذب نانو دی اکسید سیلیکون اصلاح شده به وسیله ...
full textو مطالعه ویژگی های الکتریکی نانوکامپوزیت های هیبریدی NiO/PVCبه عنوان گیت دی الکتریک ترانزیستور
در سال های اخیر ضخامت گیت دی اکسید سیلیکون در تکنولوژی CMOSبه کمتر از دو نانومتر رسیده است. این تمایل بی سابقه به کوچککردن ترانزیستور ها، علاوه بر مزایای فراوان تکنولوژیکی، مشکلاتیهمچون افزایش تونل زنی کوانتومی، افزایش جریان نشتی و نفوذ اتمبور از گیت دی الکتریک فرانازک را به همراه داشته است مواد نانوکامپوزیت هیبریدی آلی به خاطر ویژگی های خوب الکتریکی همچون جریان نشتی پایین و ثابتدی الکتریک بالا...
full textMy Resources
document type: thesis
وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه مازندران - دانشکده علوم پایه
Hosted on Doprax cloud platform doprax.com
copyright © 2015-2023